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高溫磁場(chǎng)加熱系統(tǒng) GC350-200的技術(shù)參數(shù)

更新時(shí)間:2026-06-08 點(diǎn)擊量:150

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高溫(磁場(chǎng))退火爐系統(tǒng),可以在高溫和外加磁場(chǎng)條件下對(duì)需要處理的樣品進(jìn)行退火處理。通過(guò)系統(tǒng)軟件,可以設(shè)定溫度和磁場(chǎng)變化曲線,從而實(shí)現(xiàn)所需的退火步驟。此系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單方便,可以輕松達(dá)到改善材料性能、改變材料中原子磁矩的方向和排布等目的。

錦正茂高溫磁場(chǎng)退火爐是由升溫高溫爐,高溫爐加熱電源,Labview控制軟件,電磁鐵,雙極性恒溫電源,分子泵組,水冷機(jī)組共同組成的一套反饋調(diào)節(jié)的加熱系統(tǒng)。

GC350-200主要技術(shù)指標(biāo):

※  溫度范圍:室溫-350℃(硅片上邊溫度)

※  控溫精度:±1℃

※  溫度分辨率:0.1℃

※  樣品尺寸:8英寸(需要有固定夾具,還有10mmx10mm,20mmx20mm樣品也需要考慮單獨(dú)固定)

※  樣品溫度:精圓上單獨(dú)放一個(gè)溫度計(jì),測(cè)量精圓表面溫度(溫度計(jì)封裝在鍍金無(wú)氧銅塊內(nèi),銅塊與精圓接觸測(cè)     溫,使用比較細(xì)的軟線方便移動(dòng)與測(cè)量)

※  磁場(chǎng)強(qiáng)度:>1000oe(樣品測(cè)試處磁場(chǎng))

※  持續(xù)工作時(shí)間:5小時(shí)

※  樣品臺(tái)尺寸:210mm (根據(jù)實(shí)際可更改,不小于8英寸),

※  樣品臺(tái)采用三維移動(dòng)方式,移動(dòng)行程:±110mm,移動(dòng)精度:10um

※  樣品臺(tái)主要零部件材質(zhì)均為**無(wú)磁合金制作;

※  在室溫到350度,升溫速率優(yōu)于10K/min,*高加熱溫度350℃;控溫精度:±1℃;

※  加熱時(shí),加熱絲被封裝在石英管內(nèi),極大程度的減少由于加熱絲的揮發(fā)造成樣品表面附著物的污染;

※  匹配磁鐵電源:雙極性,穩(wěn)定度優(yōu)于±25ppm/h,平滑過(guò)零無(wú)斷點(diǎn);

※  匹配電磁鐵:長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行穩(wěn)定度<±0.5Gs;

※  冷卻方式:自然冷卻。




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